Литография
В Китае начинается серийное производство иммерсионных DUV-литографических машин, которые способны производить техпроцессы 28 нанометров. Это результат многолетней стратегии по достижению технологической независимости в одной из ключевых сфер современной экономики. Однако говорить о достижении западных стандартов размера пластин пока рано.
в Китае началось массовое производство отечественных иммерсионных DUV-литографических машин, и первые установки планируют поставить уже в 2026 году крупнейшим китайским чипмейкерам, включая SMIC, Hua Hong Semiconductor и CXMT. По сообщениям Reuters и The Information, речь идет о небольшом первоначальном объеме — около пяти машин в 2026 году и примерно 20 в 2027 году.
Важно и то, что эти установки ориентированы прежде всего на техпроцессы уровня 28 нм: иммерсионная DUV-литография позволяет печатать такие нормы за одну экспозицию, а более тонкие узлы достигаются только через многократную литографию с потерями по сложности и выходу годных кристаллов. То есть это пока не «замена ASML» в полном смысле, а шаг к снижению зависимости Китая от импорта в сегменте зрелых и промежуточных техпроцессов.
Литографическая промышленность – это механический перенос рисунков схем на кремниевые пластины. Он требует точности до нескольких атомов, поэтому считается одним из важнейших технологических узлов всей полупроводниковой отрасли. Чем меньше размер схем, тем плотнее можно разместить транзисторы, выше потенциальная производительность и ниже энергопотребление при прочих равных.
Лидером в этой области и единственной компанией в мире, производящей передовые EUV-машины для литографии, является нидерландская компания ASML. Это ключевое «бутылочное горлышко» отрасли, так как лишь одна компания во всем мире может поставлять лидерское оборудование для нанесения рисунка на пластину.
Роль ASML для современной экономики, таким образом, является критически важной. Без процессоров, которые производятся благодаря литографии, не могут обойтись современные смартфоны, компьютеры, серверы, сети связи, автомобили, промышленное оборудование, медицина (МРТ, КТ, мониторинги), энергетика (солнечные и ветряные станции, зарядные станции и так далее) и значительная часть бытовой техники.
Очевидно, что, находясь в западном контуре, ASML получила запрет на технологическое сотрудничество с Китаем. В начале 2020-х США и Нидерланды наложили ограничения на зарубежные передового оборудования для производства чипов. Поэтому Пекин начал усиленно вкладывать средства в то, чтобы создать собственные решения.
Ключевым игроком здесь является малоизвестная государственная компания Shanghai Aishengna Electronic Technology Group, внутри которой специально собрали ведущих инженеров отрасли. Компания планирует выпустить около пяти литографов в этом году и примерно 20 – в следующем.
Wall Street Journal указывает, что сообщения о китайском прогрессе вызвали падение акций ASML и производителей оборудования для их машин. Однако разрыв в области технологии все еще сохраняется. В то время как только нидерландская компания является фактически монополистом на рынке EUV-систем, китайские DUV-литографы встают в один ряд с разработками японских гигантов Nikon и Canon.
DUV используют длину волны 193 нм и позволяют производить 28 нм напрямую и более сложные технологические процессы вплоть до 7 нм через более дорогой и сложный мульти-паттеринг. В то же время у EUV длина волны меньше в четырнадцать раз, всего 13,5 нм, что позволяет добиваться 3 или даже 2 нм за один проход лазера.
Техпроцесс (2 нм, 7 нм, 28 нм) — это не физический размер какого-то одного элемента и не длина волны.
Это условное название поколения технологий, которое включает:
набор производственных методов (литография, материалы, архитектура транзисторов),
правила проектирования (design rules),
плотность размещения элементов на кристалле.
Иными словами, “нм” сегодня — это маркетингово-технологический индекс уровня сложности и плотности, а не конкретная геометрическая величина.
И хотя Reuters писал в декабре 2025 года, что Китаю удалось разработать прототип для собственной EUV-машины, по прогнозам, до полноценного овладения технологии потребуются годы. Так что Пекину, несмотря на значительный прогресс, необходимо продолжать инвестировать в отрасль.
Важно понимать, что барьер перед КНР стоит не только в самой машине, но и во многих ее комплектующих. Например, часть оптики ASML закупает у всемирно известного производителя Carl-Zeiss, который также не продаст напрямую свои разработки Китаю.
Таким образом, для того чтобы догнать западные разработки, китайской отрасли необходимо создать полноценную экосистему с технологическими лидерами в производстве любого вида оборудования для EUV-литографа. В случае успеха Китай станет первой страной, которая замкнет в себе весь литографический технологический цикл с нанометражем на уровне лучших в мире. И единственный вопрос теперь не "если", а "когда" это случится.
Этот рывок вписывается в более широкий китайский технологический тренд — от полупроводников до робототехники. В 2026 году производство промышленных роботов в Китае ускорилось: только за январь–февраль выпуск вырос на 31%, до 143,6 тыс. единиц, а страна сохраняет статус крупнейшего рынка промышленной робототехники в мире. Параллельно Китай делает ставку на человекоподобных роботов: по оценкам и заявлениям отрасли, их выпуск в 2026 году может превысить 100 тыс. единиц, что показывает переход от отдельных прорывов к масштабированию целой индустрии.
Именно поэтому история с литографией — это не только про чипы, а про технологический суверенитет страны в целом. Китай стремится встроить ИИ не как отдельную отрасль, а как слой, который усиливает и промышленность, и оборонный сектор, и потребительские сервисы. В связке с собственными чипами, робототехникой и производственным оборудованием это создает эффект технологического мультипликатора: чем больше в стране локальных решений для вычислений, данных и автоматизации, тем меньше зависимость от внешних поставщиков и тем устойчивее ее технологический суверенитет.
Пекин выстраивает собственные цепочки в самых уязвимых и капиталоемких сегментах, чтобы снизить зависимость от западных ограничений и закрепить контроль над ключевыми технологиями будущего.