Процессор компьютера
В Санкт-Петербургском политехническом университете Петра Великого (СПбПУ) разработали комплекс для создания наноструктуры для микроэлектроники.
Сотрудники центра «Передовые цифровые технологии» спроектировали две установки. Первая – промышленный образец установки безмасочной нанолитографии. Вторая часть комплекса – промышленный образец установки плазмохимического травления кремния.
Безмасочный литограф используется на первой стадии процесса создания микроэлектроники. Она не требует для работы специальных шаблонов, что удешевляет и ускоряет производство. Установка для травления кремния формирует по созданному на первом этапе рисунку необходимы структуры. Плазмохимическое травление, по уверениям разработчиков, более эффективное, чем жидкостное или лазерное, которое является отраслевым стандартом на текущий момент.
В интервью РИА Новости руководитель научной группы, заведующий лабораторией «Технологии материалов и изделий микроэлектроники» СПбГУ Артем Осипов отметил, что разработку можно применять не только для производства микросхем: «Применение безмасочной нанолитографии в совокупности с плазмохимическим травлением возможно для решения широкого спектра задач. Например, в радиолокационном оборудовании возможно увеличение срока службы приборов более чем в 20 раз. А применение технологии при производстве солнечных панелей позволяет уменьшить их вес и габариты, дает возможность работы в пасмурную погоду при сохранении КПД».
Исследователи планируют максимально автоматизировать производственные процессы комплекса, используя для этого технологии машинного обучения, чтобы свести влияние человеческого фактора к минимуму. Оценочная стоимость установки составляет около 5 млн руб., что на три порядка дешевле иностранных аналогов (10-13 млрд руб.). РИА Новости не сообщают, заинтересовались ли коммерческие предприятия разработкой петербургских ученых.
Пока что в российской промышленности нет установок для производства микросхем по современным технологическим процессам. В нижегородском Институте прикладной физики РАН разрабатывают литограф, который сможет выпускать чипы по топологии 7 нм. Работы планируют закончить к 2028 году.